集成光电子学实验室
Integrated  Opto-electronics  Laboratory
 

 

 

Status

25平方米万级超净间

 

 

提供满足各种波导性能

的表征要求的实验环境

如:近场模式的采集等。

 

 

15平方米百级超净间
 

提供满足各种光波导微

结构加工的的实验环境

如:光刻工艺等。

射频磁控/直流溅射系统
 

        可以对大部分金属材料和

       无机材料进行表面溅射沉积。

 

热蒸发/电子束蒸发镀膜系统
         可以进行不同熔点物质的

         蒸发及多层膜的沉积。

高性能光刻机

       高性能光刻机,能够实现精密

       对准,光刻所达尺寸的精度优

       于1μm。

棱镜耦合仪(Metricon 2010)

      可以对透明介质的折射率、传

      光模式、薄膜厚度等进行测量

      和计算。

近场模式表征系统
 

      可以用来进行波导和光纤器件

      的近场研究。

台阶仪(表面轮廓仪)
 

      能够满足各种微表面的形貌和尺

      寸的定性和定量表征,重现性精

      度可达6A。

光谱分析仪(OSA)
 

      该设备可满足光源在600~1700

      nm波长范围时,光波导器件输出

      光谱的研究。

光学抛光设备
 

      能够使样品表面粗糙度达到光学

      级(低于10 nm),满足光学器件

      研究的要求。

高精度晶片切割设备
        能够实现不同规格的自动线性切割

可调控自动旋转甩胶系统
 

    

 

      能够在样品表面获得均匀并且有

      确定厚度的的光刻胶。

 

 

 

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